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“체포되면 암호로‘♥♥♥♥’사용하자” 약속도
검찰 “직접수사로 개발 전 과정에 유출 기술 사용 규명”

창신메모리테크놀로지(CXMT)의 반도체 /CXMT 홈페이지
삼성전자 전 임원 등이 중국 메모리 반도체 기업 창신메모리테크놀로지(CXMT)에 10나노대 D램 국가핵심기술을 유출한 혐의로 재판에 넘겨졌다.이 기술 유출로 CXMT는 중국 최초로 10나노대 D램 양산에 성공했고,고대역폭 메모리(HBM) 개발의 기반을 마련했다.검찰은 이번 사건으로 인한 피해액이 최소 수십조원에 이를 것으로 보고 있다.

서울중앙지검 정보기술범죄수사부(부장검사 김윤용)는 23일 삼성전자 전 임원 출신으로 CXMT 개발실장을 지낸 A씨 등 핵심 개발 인력 5명을 산업기술보호법 위반(국가핵심기술 국외유출 등) 혐의로 구속기소하고,파트별 개발 책임자 등 5명은 불구속 기소했다고 밝혔다.


삼성전자는 개발비 1조6000억원을 투입해 2016년 세계 최초로 10나노대 D램 양산을 시작했다.이후 SK하이닉스와 미국 마이크론 등 메모리 3사 모두 10나노대 D램 개발에 성공했다.현재 HBM은 10나노대 D램을 수직으로 쌓아 만들고 있다.

CXMT는 2016년 5월 세워진 중국 유일의 D램 제조사다.중국 지방정부가 2조6000억원을 투자했고,중앙정부도 전폭적으로 지원했다.이 회사는 2023년 10나노대(18나노) D램 개발에 성공했다.

검찰은 CXMT가 설립 직후 당시 10나노대 D램 양산에 성공한 국내 인력을 집중 영입해 기술을 확보할 계획을 세운 것으로 파악했다.

그래픽=손민균

삼성전자의 10나노대 D램 핵심 기술은 개발팀 1기와 2기로 나뉘어 유출됐다.

삼성전자 부장 출신인 1기 개발실장 B씨 등 2명은 삼성전자의 영업비밀인 18나노 D램 공정 정보를 불법 취득해 CXMT의 D램 개발에 활용했다.이 과정에서 삼성전자 전직 연구원 C씨는 2016년 9월 CXMT로 이직하며‘수백 단계의 10나노대 D램 공정 기술’을 자필로 베껴 적어 유출한 것으로 조사됐다.검찰은 “CXMT는 이를 통해 당시 세계에 유일했던 10나노대 D램 공정 기술을 사실상 통째로 확보했다”고 밝혔다.

A씨 등은 CXMT의 위장 회사에 입사했고,중국 입국 시 인근 도시를 경유하는 등 수사망을 피하기 위해 치밀하게 움직인 것으로 조사됐다.한국 정부로부터 출국 금지나 체포 상황에 대비해 암호(♥♥♥♥,하트 네 개)까지 정해 둔 것으로 드러났다.

CXMT는 공정 정보를 확보한 뒤 삼성전자 임원 출신 A씨를 2기 개발실장으로 영입했다.A씨는 2018년 2월부터 2023년 초까지 해당 공정 정보를 중국 설비에 맞게 수정해 D램 개발을 주도했다.

CXMT는 이 과정에서 SK하이닉스의 국가핵심기술도 추가로 확보한 것으로 조사됐다.SK하이닉스에 반도체 장비를 납품하던 협력업체를 통해 기술 제공을 요청한 것으로 검찰은 보고 있다.

삼성전자에서 CXMT로 이직한 직원이 유출한 D램 공정 자료./서울중앙지검 제공

전 세계 D램 시장에서 CXMT의 점유율은 2024년 초 1% 미만이었으나,축구 결과올해는 연간 7% 수준에 이를 것으로 추정된다.검찰은 이로 인해 삼성전자의 2024년 매출액이 약 5조원 감소했으며,향후 누적 피해액은 최소 수십조원에 달할 것으로 전망했다.

검찰은 지난해 1월 단서를 포착해 수사에 착수했다.압수수색과 분석 결과,축구 결과CXMT 자료와 삼성전자 자료의 일치율이 초기 56.7%에서 98.2%까지 상승한 사실을 확인했다.검찰은 지난 10월 2기 개발실장과 팀장,수석 등을 구속 기소했고,이달 들어 파트별 책임자 5명을 불구속 기소했다.

검찰 관계자는 “직접 수사를 통해 국가핵심기술 유출뿐 아니라 최종 양산 단계까지 전 과정에 유출 기술이 사용됐다는 점을 규명했다”며 “앞으로도 국가 경제와 기술 안보에 직접 영향을 미치는 국가핵심기술 국외 유출 범죄에 엄정 대응하겠다”고 밝혔다.

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